等離子刻蝕是太陽能電池片的生（shēng）產工藝流程之一，其他（tā）流程有矽片檢測、表麵製絨及酸洗、擴散製結、去磷矽玻璃（lí）、鍍減反射膜、絲網（wǎng）印刷、快速燒結等（děng）。東莞市香蕉污视频真空（kōng）科技有限公司旗下的真空（kōng）係統在等（děng）離子刻蝕中的應用是陽能電池片製造企（qǐ）業所采用的，因為香蕉污视频真空係統具（jù）有真空度高、性能穩定、壽命長（zhǎng）、操作簡單維護方便，噪音少等特點。

我們先來了解一下等離子刻蝕是一個什麽樣的過（guò）程。

由於在擴散過程中，即使采（cǎi）用背靠背擴散，矽（guī）片的（de）所有表麵包括邊緣都將不可避免地擴散上磷（lín）。PN結（jié）的正麵所收集到的光生電（diàn）子會（huì）沿著邊緣擴散（sàn）有磷（lín）的區域流到PN結的背麵，而造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜矽進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結。通常采用等離子刻蝕（shí）技術完成這一工藝（yì）。等離子刻蝕是在低壓狀態下，反應氣體CF4的母體分子在射（shè）頻功率的激發下，產生電離並形成等離子體（tǐ）。等離子體是由帶電的電子和離（lí）子組成，反應腔體中的氣體在電子的撞擊下，除了轉變成離子外，還能吸收能量並形成大（dà）量的活性基團。活性反應基團由於擴散或者（zhě）在電場作用下（xià）到達SiO2表麵，在那裏與被刻蝕材（cái）料表麵發生化學反應，並形成揮（huī）發性的（de）反應生成物脫離被刻蝕物質表麵，被真空係統抽出腔體。

等（děng）離子刻蝕機結構主要包括預真空室、刻蝕腔、供氣係統和真空係統四部（bù）分（fèn）。

1.預真（zhēn）空室

預（yù）真空室的作用是確（què）保刻蝕腔內維（wéi）持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉（fěn）塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔淨廠房（fáng）隔離開來。它（tā）由蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻蝕腔體是ICP 刻蝕（shí）設備的核心結構，它對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響。刻蝕腔的主要組成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射（shè）頻單元、下（xià）電極係統、控溫係統等組成。

3.供氣係統

供氣係統是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過壓力控（kòng）製器（PC）和質量（liàng）流量控製器（MFC）精準的控製氣體的流速和流量。氣體供應係統由氣源瓶、氣體輸送管道、控製係統、混（hún）合（hé）單元等組成。

4.真空係統

真空係統有兩套，分別用於預真空室和刻蝕腔體。預真空室由機（jī）械泵單獨抽真空，隻有在預真空室真空（kōng）度達到設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片（piàn）。刻蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共（gòng）同提供，刻蝕腔體反應生成的氣體也由真空係統排空。

普（pǔ）諾克真空係統在等離子刻蝕中的應用的作用是可以（yǐ）除去（qù）太陽電池周邊的在（zài）擴散工（gōng）藝中在矽（guī）片的表麵和周邊都擴（kuò）散了N型結，如果不去（qù）除周邊N型結會導致電池片正負極被周邊N型結連接起來時電池（chí）正（zhèng）負極相通起不到電池的作用。如果矽片未刻蝕（shí）或刻蝕不（bú）淨沒及時（shí）發（fā）現並下傳印（yìn）刷將（jiāng）產生低並組片。我們可以通過紅外熱成像（xiàng）儀檢測並判斷低並（bìng）組是否由刻蝕原因產生的。